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Chiller主要用于半導體制程中對多路反應腔室的精準控溫,裝置由熱交換器、循環泵、壓縮機和控制系統構成,采用先進的控制算法,提高了chiller的穩定性、控溫精度和反應速度。在帶負載的情況下控溫精度可達±0.5℃,可在-20℃~85℃之間任意控溫,有良好的溫度穩定性。
Chiller半導體溫控設備主要用于半導體制程中對多路反應腔室的精準控溫,裝置由熱交換器、循環泵、壓縮機和控制系統構成,采用先進的控制算法,提高了chiller的穩定性、控溫精度和反應速度。
DLS系列半導體制冷裝置可以廣泛應用于民用和工業領域,例如醫院、工廠等場所。主要應用于夾套反應釜、微通道反應器、反應裝置、組合化學等冷熱源動態恒溫控制以及制藥行業中的低溫蒸餾、萃取等設備中。
Chiller半導體溫控裝置,可從高溫300℃直接制冷降溫,低溫可達-150℃,控溫精度0.5℃智能型控溫,性能穩定,應用于石化、醫藥、生化、凍干、軍工等高科技行業。
PTXF半導體溫控系統基于高級動態控制系統,同時采用進口鉑電阻溫度傳感器,每次都能實現一致的控制結果,大大提升產品生產的穩定性。
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